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華中科技大學光刻膠重大突破 國產光刻膠通過量產驗證

來源:星空体育app在线登录入口 2024-10-29 16:08

星空体育app在线登录入口,近日從(cong) 湖北華中科技大學傳(chuan) 來消息,該校武漢光電國家研究中心團隊在國內(nei) 率先攻克合成光刻膠所需的原料和配方,這一具有裏程碑的進展,助推我國芯片製造關(guan) 鍵原材料突破瓶頸。據悉,其研發的T150A光刻膠係列產(chan) 品已通過半導體(ti) 工藝量產(chan) 驗證,實現了原材料全部國產(chan) ,配方全自主設計,有望開創國內(nei) 半導體(ti) 光刻製造新局麵。

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光刻膠是一種感光材料,用於(yu) 芯片製造的光刻環節,工作原理類似於(yu) 照相機的膠卷曝光。芯片製造時,會(hui) 在晶圓上塗上光刻膠,在掩膜版上繪製好電路圖。當光線透過掩膜版照射到光刻膠上會(hui) 發生曝光,經過一係列處理後,晶圓上就會(hui) 得到所需的電路圖。由於(yu) 光刻膠是芯片製造的關(guan) 鍵材料,國外企業(ye) 對其原料和配方高度保密,目前我國所使用的光刻膠九成以上依賴進口。

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武漢光電國家研究中心團隊研發的這款半導體專用光刻膠對標國際頭部企業主流KrF光刻膠係列。相較於國外同係列UV1610產品,T150A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm,且工藝寬容度更大、穩定性更高、留膜率更優,其對刻蝕工藝表現更好,通過驗證發現T150A中密集圖形經過刻蝕,下層介質的側壁垂直度表現優異。
據悉,T150A產品已經由武漢太紫微光電科技有限公司正式商業化,太紫微公司成立於2024年5月,由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創立。團隊立足於關鍵光刻膠底層技術研發,在電子化學品領域深耕二十餘載。企業負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強表示:“以原材料的開發為起點,最終獲得具有自主知識產權的配方技術,這隻是個開始,我們團隊還會發展一係列應用於不同場景下的KrF與ArF光刻膠,為國內相關產業帶來更多驚喜。”

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太紫微核心研發團隊成員(前排左一為(wei) 朱明強教授)

立足於(yu) 關(guan) 鍵光刻膠底層技術研究,致力於(yu) 半導體(ti) 專(zhuan) 用高端電子化學品原材料和光刻膠的開發,並以新技術路線為(wei) 半導體(ti) 製造開辟新型先進光刻製造技術,同時為(wei) 材料的分析與(yu) 驗證提供全麵的手段。

據市場預測,2024年全球光刻機市場規模有望達到295.7億(yi) 至315億(yi) 美元之間,顯示出強勁的增長勢頭。2023年中國光刻機產(chan) 量為(wei) 124台,而需求量高達727台,顯示出中國市場對光刻機的巨大需求。

2023年中國光刻機市場規模已突破160.87億(yi) 元,預計未來幾年將繼續保持快速增長。這主要得益於(yu) 中國半導體(ti) 產(chan) 業(ye) 的加速崛起以及政府對半導體(ti) 產(chan) 業(ye) 的持續投入和支持。中國作為(wei) 全球最大的芯片消費國之一,正在加速推動芯片在國內(nei) 的製造和應用。隨著新能源汽車、5G通信等產(chan) 業(ye) 的快速發展,中國對高端光刻機的需求將進一步增加。

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