久日新材4500噸光刻膠生產線12月底前投產！

11月12日，久日新材在投資者互動平台表示，大晶新材4500噸/年光刻膠生產(chan) 線預計今年12月底前投產(chan) ，項目進展情況敬請關(guan) 注公司後續相關(guan) 公告。

此前的8月20日，久日新材發布關(guan) 於(yu) 部分募集資金投資項目延期的公告，公司將對募集資金投資項目“徐州大晶新材料科技集團有限公司年產(chan) 4,500噸光刻膠項目”達到預定可使用狀態日期進行變更。該項目年產(chan) 麵板光刻膠4000噸、半導體(ti) 光刻膠500噸。公司結合大晶新材項目的實際進展情況，在募集資金投資用途及投資規模不發生變更的情況下，擬對該募集資金投資項目達到預定可使用狀態日期進行調整。具體(ti) 情況如下：

在大晶新材項目建設過程中，公司項目建設團隊及韓國技術專(zhuan) 家對項目設計方案及思路進行了重新論證，在此基礎上公司對項目建設內(nei) 容進行了部分調整：

在設備製造過程中，增加中期監造以及發貨前的清洗檢測要求，並全程跟蹤；

部分動力設備和主要儀(yi) 表等主要控製元件由在國內(nei) 購買(mai) 改為(wei) 進口。

以上調整導致部分設備的製造周期延長，造成延期交付。

此外，出於(yu) 環境因素及生產(chan) 效率方麵的考慮，公司在施工過程中還增加了施工環境檢測、每日焊機參數評定等工作。公司在保證項目建設質量的前提下，推遲達到預定可使用狀態日期，以便於(yu) 在投產(chan) 後公司產(chan) 品能快速融入市場。

目前，大晶新材項目的基礎設施已經建設、安裝完成，但考慮到大晶新材項目辦理試生產(chan) 備案等相關(guan) 手續尚需一段時間，因此公司擬將項目達到預定可使用狀態日期延期至2024年12月。

光刻膠是利用光化學反應經光刻工藝將所需要的微細圖形從(cong) 掩模版轉移到待加工基片上的圖形轉移介質，由成膜劑、光敏劑、溶劑和添加劑等主要化學品成分和其他助劑組成，在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下，其溶解度發生變化，經適當溶劑處理，溶去可溶性部分，最終得到所需圖像。其被廣泛應用於(yu) 光電信息產(chan) 業(ye) 的微細圖形線路的加工製作，是微細加工技術的關(guan) 鍵性材料。

在光刻工藝中，光刻膠被均勻塗布在矽片、玻璃和金屬等不同的襯底上，經曝光、顯影和蝕刻等工序將掩膜版上的圖形轉移到薄膜上，形成與(yu) 掩膜版完全對應的幾何圖形。光刻膠按顯示的效果，可分為(wei) 正性光刻膠和負性光刻膠，如果顯影時未曝光部分溶解於(yu) 顯影液，形成的圖形與(yu) 掩膜版相反，稱為(wei) 負性光刻膠；如果顯影時曝光部分溶解於(yu) 顯影液，形成的圖形與(yu) 掩膜版相同，稱為(wei) 正性光刻膠。

按照應用領域，光刻膠可主要分為(wei) 以下幾個(ge) 類型和品種：

其中，PCB光刻膠的技術壁壘相對較低，半導體(ti) 光刻膠的技術門檻最高。當前全球光刻膠市場基本被日美廠商壟斷，其中日本合成橡膠（JSR）、東(dong) 京應化（TOK）、杜邦、信越化學、住友化學等五大廠商壟斷了接近85%的市場份額，而日本廠商占比在70%左右。

目前國內(nei) 廠商主要以紫外寬譜、g線、i線、PCB光刻膠、TFT-LCD光刻膠等產(chan) 品為(wei) 主，國內(nei) 廠商在該等產(chan) 品領域已經占據了一定的市場份額，而在KrF、ArF/ArFi、EUV等中高端光刻膠領域，仍主要依賴於(yu) 進口。

根據中國電子材料行業(ye) 協會(hui) 統計，2022年中國集成電路、新型顯示、PCB三大領域用光刻膠市場規模合計達146.81億(yi) 元，其中集成電路用光刻膠市場規模46.29億(yi) 元，占比31.5%；新型顯示用光刻膠62.92億(yi) 元，占比42.90%；PCB用光刻膠37.6億(yi) 元，占比25.60%。

2022年中國集成電路晶圓製造用光刻膠市場規模達到33.58億(yi) 元，同比增長約13.5%，預計到2025年中國集成電路晶圓製造用光刻膠市場規模將達到37.64億(yi) 元；2022年中國集成電路封裝用光刻膠市場規模12.71億(yi) 元，同比增長10.3%，預計到2025年市場規模將增長至13.84億(yi) 元。

從(cong) 國內(nei) 布局的企業(ye) 來看，除了久日新材外，光刻膠生產(chan) 企業(ye) 主要還有南大光電、容大感光、晶瑞電材、華懋科技、飛凱材料、廣信材料。